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在單(dān)晶胞 ZnIn2S4 納米片陣列中構建 p-n 結以提高光電化學性能
發布時間:2021-09-15    瀏覽量:28068

1. 文章信息

標題:Construction of p-n junctions in single-unit-cell ZnIn2S4 nanosheet arrays toward promoted photoelectrochemical performance

中文標題:在單晶胞 ZnIn2S4 納米(mǐ)片陣列中構建 p-n 結以提高光電化學性能

頁碼:262-270(2021),DOI:https://doi.org/10.1016/j.jcat.2021.08.009

2. 文章鏈接

Construction of p-n junctions in single-unit-cell ZnIn2S4 nanosheet arrays toward promoted photoelectrochemical performance | Journal of Catalysis

3. 期刊信息

期刊名:Journal of Catalysis

ISSN:0021-9517

2021年(nián)影響因子:7.92

分區信息:中科院1區Top;JCR分區(Q1)

涉及研究方向(xiàng):光電催化(huà)

4. 作者信息:第一作者(zhě)是重慶大學博士吳俁。通訊作者為普渡大學助理教授(shòu)Peilin Liao和重慶大學王煜教授。

5.光源型號:CEL-PEAM-D8PLUS、CEL-HXF-300、GC7920 全自動係統氣相色譜濾光片\AM1.5

文章簡介:

太陽(yáng)能驅動的光電化學 (PEC) 將水分解為(wéi)氫燃料一直是清潔能(néng)源存儲和轉換的理想途徑。到目前為止,已經研究了各種各樣的(de)半導體材料並應用於 PEC 器件,然而,由於光激發電荷的高複合率,大多數(shù)光催化劑仍然受製於有限的光活性。裁(cái)剪超薄形(xíng)態和構建 p-n 結已被證明能夠優(yōu)化 PEC 性能。對於一些 n 型材料(如金屬氧化物、硫屬元(yuán)素化物和 g-C3N4),已經對通過 V 族元素受主摻(chān)雜構建 的p-n 結進行了廣泛(fàn)的研究。就傳統的 p-n 結而言,用於構建此類結構的材料已達到其厚度的理(lǐ)論極限(兩(liǎng)個單元厚(hòu))。例如,Philip Kim 及其同事提出了(le)由範德瓦爾斯相互作(zuò)用形成的超薄 p-n 異質(zhì)結。然而,層間載流子分離和(hé)傳輸的障(zhàng)礙在(zài)這種結構中(zhōng)是普遍存在的。因此(cǐ),我們專注於基於更薄極限厚(hòu)度(僅(jǐn)一個晶胞厚度)的片狀納米材料,以創建 p-n 結來解決上述問題。


在本文中,我們首先通過磷化氫 (PH3) 處理單晶胞 n 型 ZnIn2S4 (n-ZIS) 納米片陣列構建 p-n 結,其(qí)表現(xiàn)出完全不同的載流子分離和傳輸行為。因(yīn)此,這種獨特的納米(mǐ)結構賦予了最佳的摻磷 n-ZIS (n-ZIS-P) 光陽極具有 51.5 µmol cm-2 h-1 的高析氧速率和令人印象深刻的 6.34 mA cm-2 光生電流密度在1.23 V 相對可逆氫電極 (VRHE)下,比 n-ZIS 優越許多。值得注(zhù)意的是,我們在這項工作中展示的最佳光電流密度值高於所有基於 ZIS 的光陽(yáng)極。顯著的改善可能主要是(shì)由於促進了電荷分離/傳輸、抑(yì)製了電子-空穴複合、延長了電荷壽命和提高了光穩定性。




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